星空无限传媒官网免费

　　

　　1.静态分析要求一次离子束流要有较低的密度，因此，常常选用较大尺寸的束斑以便使得一定的灵敏度得以保持。面分布及深度剖面分析要求束斑直径小且可进行扫描,也应当相应地提高束流密度。初次意外，进行表面清洁处理也要求束流密度比较高。因此对次束流大小及束流密度的调节范围应当比较宽，并且选用的离子枪类型常常不同，并且对不同种类的一次离进行选用。

　　

　　2.离子流检测系统检测灵敏度、动态范围和响应速度应当尽可能高，并且相应的数据采集、处理和显示系统也应该有。

　　

　　3.还需带有中和作用的电子枪以便对绝缘样品进行分析。还常需有二次电子成像系统以便对表面形貌进行观察。

　　

　　4.厂滨惭厂，尤其是静态厂滨惭厂，在超高真空下工作为基本要求。因为在样品表面上注氧能够使二次离子产额提高和稳定，而且能够使溅射产额降低，所以注氧装置常常被要求携带。

　　

　　5.要求可以在超高真空下机械调节样品的位置，并且相应的送样、取样装置也应当配备，样品还应当进行加热、冷却、破碎和清洁处理等步骤。

　　

　　6.二次离子分析系统的总流通率要求尽可能高，适当的质量分析范围和质量分辨率需要具备，将质量歧视效应克服并且分析速度尽可能快。还要求可以对质谱计前二次离子能量窗口的位置和宽度进行调节。